[发明专利]一种抛光液的循环再利用方法

摘要

本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种在晶圆的研磨过程中所利用到的抛光液的循环再利用的方法。本发明提出一种抛光液的循环再利用方法，通过提高回收利用的废弃抛光液的质量，实现抛光液的循环利用，从而降低了化学机械研磨工艺的成本，且循环利用的工艺简单，易于实现操作。

主权项

一种抛光液的循环再利用方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1、在研磨晶圆所产生的废弃抛光液中通入可挥发性氧化剂，用于氧化废弃抛光液中的杂质，使杂质进行氧化而生成颗粒较大的氧化反应物；步骤S2、用过滤装置多次重复过滤经过步骤S1处理后的抛光液，以去除抛光液中颗粒较大的固体物；其中，颗粒较大的固体物包括所述杂质经氧化而生成的氧化反应物，以及晶圆在研磨过程中所产生的反应物和沉淀物；步骤S3、用逆渗透法去除经过步骤S2处理后的抛光液中多余的水，通过半透膜隔离抛光液与去离子水，并对抛光液施加压力使得水分子从浓度高的抛光液通过半透膜流向浓度低的去离子水中；步骤S4、提取经步骤S3所处理并回收的抛光液的PH值，将该PH值与正常抛光液的PH值进行比较，如果该PH值正常，则利用回收的抛光液继续作为研磨液所用；如果该PH值异常，则在回收的抛光液中添加PH稳定剂。