[发明专利]在光学材料表面形成高硬度低摩擦光学薄膜的方法有效
| 申请号： | 201110141171.2 | 申请日： | 2011-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN102213778A | 公开（公告）日： | 2011-10-12 |
| 发明（设计）人： | 毛磊;崔志英;杨勇;肖博智 | 申请（专利权）人： | 宁波永新光学股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G02B1/10;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/08 |
| 代理公司： | 宁波奥圣专利代理事务所(普通合伙) 33226 | 代理人： | 程晓明 |
| 地址： | 315040 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种在光学材料表面形成高硬度低摩擦光学薄膜的方法，该光学薄膜采用磁控溅射镀膜的方式形成，在真空度为3.0×10-4a以上，工作温度为60～90℃的条件下，以氧化硅层和碳化硅层构成一个周期，将多层氧化硅层和多层碳化硅层按周期反复交替地蒸着在基体光学材料的表面形成厚度大于4000nm的复合镀层，在碳化硅层的形成过程中渗入氢离子，氧化硅层厚度为10～120nm，碳化硅层厚度为100～1000nm，当复合镀层形成之后，在复合镀层的表面蒸着形成增透层，制成的光学薄膜经测试，硬度可达到2000HV以上，摩擦系数小于0.2，透过率达到85％左右，且价格便宜，寿命可以达到在光学材料表面贴盖的蓝宝石片的四分之一左右，而成本仅有十分之一，可以用来替代光学窗口上使用的蓝宝石片。 | ||
| 搜索关键词： | 光学材料 表面 形成 硬度 摩擦 光学薄膜 方法 | ||
【主权项】：
一种在光学材料表面形成高硬度低摩擦光学薄膜的方法，其特征在于该光学薄膜采用磁控溅射镀膜的方式形成，在真空度为3.0×10‑4a以上，工作温度为60～90℃的条件下，以氧化硅层和碳化硅层构成一个周期，将多层氧化硅层和多层碳化硅层按周期反复交替地蒸着在基体光学材料的表面形成厚度大于4000nm的复合镀层，在碳化硅层的形成过程中渗入氢离子，氧化硅层厚度为10～120nm，碳化硅层厚度为100～1000nm，当复合镀层形成之后，在复合镀层的表面蒸着形成增透层。
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