[发明专利]一种服装展示素材的抠图方法无效
| 申请号： | 201110132259.8 | 申请日： | 2011-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN102214355A | 公开（公告）日： | 2011-10-12 |
| 发明（设计）人： | 朱欣娟;黄俊芳;周千明 | 申请（专利权）人： | 西安工程大学 |
| 主分类号： | G06T5/00 | 分类号： | G06T5/00;G06T5/40 |
| 代理公司： | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人： | 罗笛 |
| 地址： | 710048 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开的一种服装展示素材的抠图方法，首先模特图像拍摄及预处理，得到预处理后的着装模特图像；其次对预处理后的着装模特图像进行二值化处理；然后对二值化着装模特图像进行掩膜处理，得到服装图像掩膜；最后根据服装图像掩膜，对预处理后的着装模特图像进行分割处理，提取相应的服装前景图像，完成服装展示素材的抠图。本发明服装展示素材的抠图方法，针对服装电子商务服装搭配二维展示的需求，提出了一种基于图像处理技术的抠图方法，减少图像抠图中的人工交互，在一定程度上解决了服装搭配展示中服装素材获取困难且费时的问题；同时该抠图处理方法还可衍生应用于其他领域，如“虚拟店铺”、“试衣镜”等。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 服装 展示 素材 方法 | ||
【主权项】：
一种服装展示素材的抠图方法，其特征在于，具体按照以下步骤实施：步骤1：模特图像拍摄及预处理，得到预处理后的着装模特图像；步骤2：对步骤1得到的预处理后的着装模特图像进行二值化处理；步骤3：对步骤2得到的二值化着装模特图像进行掩膜处理，得到服装图像掩膜；步骤4：根据步骤3得到的服装图像掩膜，对步骤1得到的预处理后的着装模特图像进行分割处理，提取相应的服装前景图像，完成服装展示素材的抠图。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安工程大学，未经西安工程大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110132259.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：发动机智能起停控制方法及发动机智能起停系统
- 下一篇：入耳式耳机和扩展转接器
