[发明专利]成像装置有效
| 申请号： | 201110124772.2 | 申请日： | 2007-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN102169298A | 公开（公告）日： | 2011-08-31 |
| 发明（设计）人： | 长尾由香;水岛直;靍森政美;中川智子;高村宽昭;栗原俊一郎;上中徹;广井政行 | 申请（专利权）人： | 三菱化学株式会社 |
| 主分类号： | G03G5/05 | 分类号： | G03G5/05;G03G5/06;G03G5/07;G03G9/08;G03G9/093;G03G15/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明涉及成像装置。为了实现一种耐磨性优异的电子照相感光体，而使感光体的感光层中包含具有式(1)所示重复结构的聚酯树脂和腙化合物。式(1)中，Ar1～Ar4各自独立地表示带有取代基或不带有取代基的亚芳基，X1表示二价基团(包括单键)，X2表示原子数为3以下的二价基团(包括单键)。 |
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| 搜索关键词： | 成像 装置 | ||
【主权项】：
1.一种成像装置，其至少具备电子照相感光体和调色剂，其特征在于，该电子照相感光体的感光层包含具有下式(1)所示重复结构的聚酯树脂，并且利用流动式颗粒图像分析装置测定的该调色剂的平均圆形度为0.940～1.000，![]()
式(1)中，Ar1～Ar4各自独立地表示带有取代基或不带有取代基的亚芳基，X1表示二价基团(包括单键)，X2表示原子数为3以下的二价基团(包括单键)。
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