[发明专利]防尘薄膜组件用粘着剂有效
| 申请号： | 201110117241.0 | 申请日： | 2011-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN102236250A | 公开（公告）日： | 2011-11-09 |
| 发明（设计）人： | 堀越淳 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;C09J7/02 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 郭广迅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题是选定一种粘着剂，该粘着剂在防尘薄膜组件的异物检测时，不会发生由于光在粘着剂中反射或折射产生杂散光而发生误检。本发明的防尘薄膜组件至少由防尘薄膜以及防尘薄膜组件框架组成，在所述防尘薄膜组件框架的一个端面，贴附有所述防尘薄膜，在所述防尘薄膜组件框架的另一个端面，设有用来将所述防尘薄膜组件贴附于玻璃基板的粘着剂，在所述粘着剂上表面，设置有可剥离片，所述防尘薄膜组件用粘着剂的特征在于：其全光线透过率为不大于70％。本发明的防尘薄膜组件用粘着剂优选为黑色。 | ||
| 搜索关键词： | 防尘 薄膜 组件 粘着 | ||
【主权项】：
一种防尘薄膜组件用粘着剂，所述防尘薄膜组件至少由防尘薄膜以及防尘薄膜组件框架组成，在所述防尘薄膜组件框架的一个端面，贴附有所述防尘薄膜，在所述防尘薄膜组件框架的另一个端面，设有用来将所述防尘薄膜组件贴附于玻璃基板的粘着剂，在所述粘着剂上表面，设置有可剥离片，所述防尘薄膜组件用粘着剂的特征在于：其全光线透过率为不大于70％。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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