[发明专利]一种逆构电极的电流变均匀抛光方法与装置

摘要

本发明涉及一种逆构电极的电流变均匀抛光方法与装置，属于光整加工领域。包括获得平面面型信息，确定刀位位置及抛光间隙，在工件表面注入电流变液，由压力分布反求电场分布，由电场强度分布，调用数据库，模糊判别，获得与之近似之电极电压分布模型；由所得模型，控制各驱动电源输出，控制电致伸缩材料使各电极移动至预定位置，控制各高压电源输出，使各电极加载所需电压，抛光作业。本发明利用电流变液的流变特性，构造各点硬度不均匀的柔性抛光头，配合抛光速度，得到均匀的抛光去除率，以刀具的硬度改变适应面型的变化。

主权项

1.一种逆构电极的电流变均匀抛光方法，其特征在于：包括下列步骤：（1）、获得平面面型信息；（2）、确定刀位位置及抛光间隙；（3）、在工件表面注入电流变液；（4）、由抛光区域的面型信息及抛光区域内各点线速度分布，计算获得均匀去除率时的抛光压力分布；已知平面抛光时抛光速度，则在抛光区域沿半径方向的抛光速度分布是圆心处线速度最低，沿半径方向线速度逐渐增大，在边缘处线速度最大，抛光去除率服从Preston方程，若使去除率在抛光区域均匀，则抛光压力在半径方向的分布应与抛光速度成反比，才能保证抛光压力与抛光速度的乘积为常数；（5）、由压力分布反求电场分布由于抛光静压力当电流变抛光液配方一定时，为常数； 则抛光区域内电场强度的平方与抛光压力成正比；（6）、由电场强度分布，调用数据库，模糊判别，获得与之近似之电极电压分布模型；（7）、由所得模型，控制各驱动电源输出，控制电致伸缩材料使各电极移动至预定位置，控制各高压电源输出，使各电极加载所需电压；（8）、抛光作业。