[发明专利]一种抛光液无效
| 申请号： | 201110103140.8 | 申请日： | 2011-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN102757731A | 公开（公告）日： | 2012-10-31 |
| 发明（设计）人： | 蒋莉;黎铭琦 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种抛光液，包括如下组分：氧化剂，其含量为所述抛光液总质量的0.1％～5％；螯合剂，其含量为所述抛光液总质量的0.1％～5％；添加剂，其含量为所述抛光液总质量的0.1％～5％；PH调节剂和作溶剂的去离子水，PH值为6～8。本发明的抛光液，一方面选取GST与W之间的抛光差异最小的PH值范围(6～8)来改善GST电化学腐蚀；另一方面，应用本发明的抛光液进行GST抛光时，本发明抛光液含有的添加剂在GST与W上能形成钝化层，进一步改善GST与W之间的抛光差异，减小相对W的GST电化学腐蚀，提高GST的抛光性能，可应用于其他相变材料的抛光制程中，进而提高了PCRAM的成品率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 | ||
【主权项】：
一种抛光液，其特征在于，包括如下组分：氧化剂，其含量为所述抛光液总质量的0.1％～5％；螯合剂，其含量为所述抛光液总质量的0.1％～5％；添加剂，其含量为所述抛光液总质量的0.1％～5％；PH调节剂和作溶剂的去离子水，PH值为6～8。
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