[发明专利]一种基于数字掩模光刻技术制作微透镜阵列的方法无效
| 申请号： | 201110096730.2 | 申请日： | 2011-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN102141639A | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | 高益庆;付裕芳;罗宁宁;龚勇清;王平奇;雷刚 | 申请（专利权）人： | 南昌航空大学 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 南昌洪达专利事务所 36111 | 代理人： | 刘凌峰 |
| 地址： | 330000 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 一种基于数字掩模光刻技术制作微透镜阵列的方法，制作方法为：通过计算机设计并控制微透镜阵列掩模图形的排列方式，自动控制微透镜阵列中各微透镜数字掩模图形在曝光平面上绕各自对称轴同时旋转；最后采用实时动态的曝光方式，在光刻基板上一次性曝光形成微透镜阵列浮雕面型，从而得到微透镜阵列。本发明的技术效果是：1、适合于大规模阵列化制作；2、能合理地设计单个透镜之间的距离，达到较高的占空比；3、可实时改变数字掩模图形的旋转速度和曝光时间；4、曝光过程由计算机控制，操作简单；5、可在基片上一次性曝光出完整面形的微透镜阵列。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 数字 光刻 技术 制作 透镜 阵列 方法 | ||
【主权项】：
一种基于数字掩模光刻技术制作微透镜阵列的方法，其特征是制作方法为：通过计算机设计并控制微透镜阵列掩模图形的排列方式，自动控制微透镜阵列中各微透镜数字掩模图形在曝光平面上绕各自对称轴同时旋转；最后采用实时动态的曝光方式，在光刻基板上一次性曝光形成微透镜阵列浮雕面型，从而得到微透镜阵列。
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