[发明专利]曝光装置、曝光方法和器件制造方法有效
| 申请号： | 201110089474.4 | 申请日： | 2004-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN102163004A | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | 长坂博之;高岩宏明;蛭川茂 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 王以平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本申请公开了一种曝光装置、曝光方法和器件制造方法。曝光装置(EX)是经投影光学系统(PL)和液体(1)将曝光光(EL)照射到基片(P)上以对基片(P)进行曝光的装置。该曝光装置(EX)具有用于保持该基片(P)的基片台(PT)。将具有疏液性的平坦面(30A)的板构件(30)以可更换的方式安装到上述基片台(PT)上，以防止液体残留，维持良好的曝光精度。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 器件 制造 | ||
【主权项】：
一种经液体对基片照射曝光光以对上述基片曝光的曝光装置，其特征在于：具备：将图案的像投影在上述基片上的投影光学系统；用于保持上述基片的基片台；以及在上述基片台以可装卸的方式设置、具有其表面与由该基片台保持的上述基片表面大致为同一面的平坦部的构件。
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