[发明专利]一种接近式逐场曝光装置与方法

摘要

一种接近式逐场曝光装置，包括照明分系统、工件台、位置测量分系统、调焦调平分系统和对准分系统；从照明分系统出射的均匀的平行光入射至掩模台上的掩模，其特征在于，曝光装置的视场基底小，工件台有XYZRxRyRz六个自由度，XY方向可以大范围运动，ZRxRyRz可小范围调整，在曝光前先对基底进行面形测量和对准，曝光时根据基底的面形数据，以及对准的数据按照曝光处方打开照明系统进行逐场曝光。

主权项

一种接近式逐场曝光装置，包括：照明分系统，用以出射平行光；掩模台，用以承载一掩模，所述平行光入射至所述掩模；工件台，用以承载一基底，所述基底表面被划分为多个曝光区域；调焦调平分系统，用以于曝光前对所述基底表面的多个曝光区域进行面形测量以获得与所述多个曝光区域分别对应的面形数据；以及位置测量分系统，用以测量所述工件台的位置，在进行步进曝光过程中，于一曝光区域完成曝光之后，驱动所述工件台下降并步进至下一曝光区域，并透过所述调焦调平分系统依据所述下一曝光区域对应的面形数据及所述位置测量系统侧得的所述工件台的位置数据将所述工件台调整到曝光平面，之后驱动工件台上升，开启所述照明系统对所述下一曝光区域进行曝光。