[发明专利]用于等离子体发生器的可控制谐波的射频系统有效
申请号: | 201110064745.0 | 申请日: | 2011-03-17 |
公开(公告)号: | CN102686004A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 欧阳亮;钱学明;刘磊;陈金元;倪图强;杜志游;尹志尧 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)有限公司 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁;徐雯琼 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于等离子体发生器的可控制谐波的射频系统,包含提供生成所述等离子体的射频能量的第一射频源,以及连接在所述第一射频源与所述驱动电极之间的匹配盒,其通过设置的匹配电路,使所述反应腔内等离子体的负载阻抗与所述第一射频源的输出阻抗相匹配;本发明的特点是,在所述匹配盒中还设置有谐波控制装置,其产生一阻抗值可调的调谐阻抗,来调整第一射频源的谐波阻抗,从而抑制该第一射频源的谐波电流,使基片表面的等离子体能均匀分布;或者,谐波控制装置通过使其输出的调谐阻抗在高阻抗至低阻抗之间可调,来控制谐波电流的大小,并在基片中心及边缘表面获得不同的等离子体密度,以对应产生不同的蚀刻效果。 | ||
搜索关键词: | 用于 等离子体 发生器 控制 谐波 射频 系统 | ||
【主权项】:
一种用于等离子体发生器的可控制谐波的射频系统,向驱动电极施加射频能量,在等离子体发生器的真空反应腔(30)内,形成反应气体(60)的等离子体(50)对基片(40)进行处理,其中,所述射频系统包含:第一射频源(11),其提供生成所述等离子体(50)的射频能量;匹配盒(20),其连接在所述第一射频源(11)与所述驱动电极之间,其中设置有匹配电路,使所述反应腔(30)内等离子体(50)的负载阻抗与所述第一射频源(11)的输出阻抗相匹配,其特征在于:所述匹配盒(20)中还设置有谐波控制装置(21),与所述第一射频源(11)连接,所述谐波控制装置(21)产生一阻抗值可调的调谐阻抗,对所述第一射频源(11)的谐波阻抗进行调整。
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