[发明专利]一种用于电阻型存储材料的聚西佛碱有效

专利信息
申请号: 201110060469.0 申请日: 2011-03-14
公开(公告)号: CN102219898A 公开(公告)日: 2011-10-19
发明(设计)人: 李润伟;胡本林;诸葛飞;潘亮 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: C08G73/00 分类号: C08G73/00;H01L45/00
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 陈英俊
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种用于电阻型存储材料的聚西佛碱,该聚西佛碱包含结构单元:其中,n为正整数,R0为氢原子、C1-C20的脂肪或芳香基团,基本单元X、Y为具体结构单元(a)至(m)中的一种或两种以上的组合。本发明的聚西佛碱合成简单,具有良好的热稳定性与易加工性,在外电场作用下表现出电阻转变现象,因此可作为新型的存储材料用于电阻型随机存储器中。与现有的电阻型存储材料相比,本发明的聚西佛碱充分发挥了聚合物作为电子材料的诸多优势,例如,良好的加工性能、优异的延展性和丰富的结构变换及设计等,是一种具有发展潜力的新型的电阻型存储材料。
搜索关键词: 一种 用于 电阻 存储 材料 聚西佛碱
【主权项】:
1.一种用于电阻型存储材料的聚西佛碱,其特征是:包含如下结构单元:其中,n为正整数,R0为氢原子、C1-C20的脂肪或芳香基团,基本单元X、Y分别为以下结构单元(a)至(m)中的一种或两种以上的组合,其中A为硝基、磺酸基、磺酸盐、硝基、卤仿基、季胺基,A的取代位置可以为2,2,2’-或3,3’-;其中A为硝基、磺酸基、磺酸盐、硝基、卤仿基、季胺基,A的取代位置可以为2,2,2’-或3,3’-;其中W为二价基团,W的取代位置可以位于两个羰基的邻位、间位或者对位;R1和R2分别为氢原子、脂肪或芳香基团;其中V为二价基团,V的取代位置可以为3,3’-,4,4’-,或者3,4’-;R3和R4分别为氢原子、脂肪或芳香基团;其中,R5为氢原子、C1-C40的脂肪或芳香基团;其中,R6和R7为氢原子、C1-C40的脂肪或芳香基团;其中,R8和R9为氢原子、C1-C40的脂肪或芳香基团;其中,R10和R11为氢原子、C1-C40的脂肪或芳香基团;其中,R12和R13为氢原子、C1-C40的脂肪或芳香基团;其中,R14为氢原子、C1-C40的脂肪或芳香基团;其中,R16为氢原子、C1-C40的脂肪或芳香基团;其中,Q为NH,O或者S,R17为氢原子、C1-C40的脂肪或芳香基团;其中,R18和R19为氢原子、C1-C40的脂肪或芳香基团。
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