[发明专利]金属外壳上形成乳白色膜层的方法无效
| 申请号： | 201110046305.2 | 申请日： | 2011-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN102650036A | 公开（公告）日： | 2012-08-29 |
| 发明（设计）人： | 王仲培;廖名扬 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种在金属外壳上形成乳白色膜层的方法，包括提供一个金属外壳；利用反应式磁控溅射镀膜工艺，以纯铬为靶材，以氮气为反应气体，于该金属外壳表面形成一个氮化铬膜层；利用反应式磁控溅射镀膜工艺，以纯铬及纯铝为靶材共溅镀，以氧气为反应气体，在该氮化铬膜层上形成一由氧化铬及氧化铝组成的乳白色膜层，该铝靶材和该铬靶材受轰击的功率比约为12∶1，该反应式磁控溅射镀膜工艺的偏压介于180至220伏特，温度介于摄氏180至220度，时间介于58至62分钟。该镀膜方法所镀制的乳白色膜层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L坐标介于86.15至86.25，a坐标介于0.425至0.435，而b坐标介于0.715至0.725。 | ||
| 搜索关键词： | 金属外壳 形成 乳白色 方法 | ||
【主权项】：
一种在金属外壳上形成乳白色膜层的方法，包括：步骤1：提供一金属外壳；步骤2：利用反应式磁控溅射镀膜工艺，以纯铬为靶材，以氮气为反应气体，于该金属外壳表面形成一氮化铬膜层；以及步骤3：利用反应式磁控溅射镀膜工艺，以纯铬及纯铝为靶材共溅镀，以氧气为反应气体，在该氮化铬膜层上形成一由氧化铬及氧化铝组成的乳白色膜层，该铝靶材和该铬靶材受轰击的功率比约为12∶1，该反应式磁控溅射镀膜工艺的偏压介于180至220伏特，温度介于摄氏180至220度，时间介于58至62分钟。
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