[发明专利]腔体滤波器制造工艺参数选择方法无效

专利信息
申请号: 201110043920.8 申请日: 2011-02-24
公开(公告)号: CN102148418A 公开(公告)日: 2011-08-10
发明(设计)人: 黄进;王景 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01P11/00 分类号: H01P11/00;H01P1/207
代理公司: 西安吉盛专利代理有限责任公司 61108 代理人: 张培勋
地址: 710071 陕西省西安市*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明属于腔体滤波器的制造领域,具体是在腔体滤波器的制造过程中对加工工艺参数的一种选择方法,确切说是腔体滤波器制造工艺参数选择方法,其方法是:至少包括:步骤101至110,运用最小二乘回归的方法建立了加工工艺参数与耦合矩阵之间的函数关系,采用反推得到的工艺参数将得到更加接近设计要求的滤波器,减少了研制成本和调试时间。它满足了对腔体滤波器更高的电性能要求。
搜索关键词: 滤波器 制造 工艺 参数 选择 方法
【主权项】:
腔体滤波器制造工艺参数选择方法,其方法是:它包括:步骤101,通过给定的腔体滤波器模型参数,依据公式计算需要加工的滤波器腔体和滤波器内导体误差; 步骤102,依据上述公式计算的含有加工误差滤波器模型输入到电磁场仿真软件HFSS中建立含有加工误差滤波器模型;步骤103,由HFSS仿真得到S曲线;步骤104,从仿真得到的S曲线得到传输函数表达式; 步骤105,通过滤波器等效电路推导出导纳函数的第一表达式;步骤106,由传输、反射函数多项式经过同等变换得到导纳函数第二种形式的表达式;步骤107,比较第一表达式和第二表达式提取出耦合矩阵;步骤108,通过步骤101步至步骤107步选取工艺参数,得到耦合矩阵样本集;步骤109,运用最小二乘回归分析法,依据耦合矩阵样本集建立模型,得到加工工艺参数与耦合矩阵之间的函数表达式;步骤110,根据设计要求的滤波器的电性能参数反推出加工工艺参数。
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