[发明专利]一种掩膜台系统

摘要

一种掩膜台系统，主要用于光刻机系统中。该系统包括磁悬浮装置，振动装置、驱动装置和掩膜台。所述磁悬浮装置由固定在掩膜台上的永磁体和被永磁体吸引的固定在光刻机机架上的铁磁性部件组成，在驱动装置的配合下使掩膜台在工作中保持悬浮状态；所述振动装置包括两个设置在掩模台两端的永磁体和与永磁体配合的固定在光刻机机架上的两个电磁铁，且两者同极相对而互斥；所述驱动装置由固定在光刻机机架上的线圈阵列和固定在掩膜台上的永磁体阵列组成，在调整掩膜台姿态的同时直接驱动掩膜台在振动装置中往复高速运动。该系统简化了掩膜台结构，提高了掩模台的速度，加速度和控制带宽，进而提高了光刻机的生产率、套刻精度和分辨率。

主权项

一种掩膜台系统，其特征在于：该系统包括掩膜台(2)、磁悬浮装置、振动装置以及驱动装置，所述磁悬浮装置含有固定在掩膜台(2)上的悬浮永磁体(3)和固定在光刻机机架上的铁磁性部件(4)；所述振动装置包括分别设置在掩模台(2)两端的两个运动永磁体(5)和两个固定在光刻机机架上的静止电磁铁(6)，且两者的同极相对而互斥，使掩膜台在两个静止电磁铁之间的区域往复运动；所述驱动装置包括一个以上的X方向驱动装置，一个以上Y方向驱动装置和一个以上的Z方向驱动装置，每个驱动装置都含有固定在光刻机机架上的线圈阵列和固定在掩膜台上的永磁体阵列；所述X方向驱动装置驱动掩膜台在振动装置中做往复直线运动；所述Z方向驱动装置配合磁悬浮装置调节掩膜台在Z轴方向的位置以及绕X轴和Y轴转动的两个转动自由度，使掩膜台在工作过程中保持悬浮状态；所述Y方向驱动装置负责调整掩膜台沿Y轴的位置和绕Z轴的转动自由度。