[发明专利]真空控制系统及真空控制方法有效
| 申请号： | 201110006248.5 | 申请日： | 2011-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN102129256A | 公开（公告）日： | 2011-07-20 |
| 发明（设计）人： | 板藤宽;绞缬雅之 | 申请（专利权）人： | CKD株式会社 |
| 主分类号： | G05D16/16 | 分类号： | G05D16/16;F16K31/122 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 余朦;熊传芳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及对真空容器内部的气体流动进行控制的技术。本发明提供一种真空控制系统(10)，其使用真空泵控制真空容器(500)中的工艺气体的真空压力和流动，所述真空容器(500)接收由供气部提供的工艺气体并对处理对象执行处理。所述真空控制系统(10)包括：多个真空控制阀(100，200)，分别连接于各排气口(561，562)和真空泵(300)之间，所述各排气口(561，562)配置于所述真空容器(500)中互不相同的位置；压力测量部(631)，测量被提供给所述处理对象的工艺气体的真空压力；以及控制装置(610)，根据测量出的真空压力对所述多个真空控制阀(100，200)的各自的开度进行操控。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 控制系统 控制 方法 | ||
【主权项】：
真空控制系统，使用真空泵对真空容器中的工艺气体的真空压力和流动进行控制，所述真空容器接收由供气部提供的工艺气体并对处理对象执行处理，其特征在于，包括：多个真空控制阀，分别连接在各排气口和所述真空泵之间，所述各排气口被配置于所述真空容器中互不相同的位置；压力测量部，测量被提供给所述处理对象的工艺气体的真空压力；以及控制装置，根据所述压力测量部测出的真空压力，对所述多个真空控制阀的各自的开度进行操控。
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