[发明专利]光源装置及光照射装置有效
| 申请号： | 201110005304.3 | 申请日： | 2011-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN102182979A | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | 森和之;佐佐木雄一;三浦雄一 | 申请（专利权）人： | 优志旺电机株式会社 |
| 主分类号： | F21V7/04 | 分类号： | F21V7/04;H01J61/20;F21V29/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 谢丽娜;关兆辉 |
| 地址： | 日本国东京*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种光源装置及光照射装置，被交流驱动的放电灯和装入有该放电灯的凹面反射镜构成，并配置成所述放电灯的中心轴与凹面反射镜的光轴一致，抑制灯的下半部内的紫外线吸收而能够得到充分的光输出的结构。其特征在于，所述凹面反射镜的开口部朝向上方配置，一对电极的下侧电极进行阳极动作的时间比上侧电极进行阳极动作的时间长。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 装置 照射 | ||
【主权项】：
一种光源装置，由在放电容器的内部相对向配置有一对电极、并且封入有0.08～0.26mg/mm3的水银且被交流驱动的放电灯和装入有该放电灯的凹面反射镜构成，所述放电灯的中心轴与凹面反射镜的光轴被配置成一致，所述光源装置的特征在于，所述凹面反射镜的开口部朝向上方配置，所述一对电极的下侧电极进行阳极动作的时间比上侧电极进行阳极动作的时间长。
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