[发明专利]立式机床的可变静压追踪系统和包括所述追踪装置的立式机床有效
| 申请号： | 201080070481.3 | 申请日： | 2010-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN103384581A | 公开（公告）日： | 2013-11-06 |
| 发明（设计）人： | 埃米利奥·加西亚·卡尔德隆;伊丽莎白·本戈奇·乌瓦里谢纳 | 申请（专利权）人： | 白欧斯特机床股份公司 |
| 主分类号： | B23Q1/38 | 分类号： | B23Q1/38;B23Q1/52;F16C32/06 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 西班牙吉*** | 国省代码： | 西班牙;ES |
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| 摘要： | 一种立式机床的可变静压追踪系统，所述可变静压追踪系统包括：安装在环形基座(1)的外周(1b)和中央开口(1a)之间的多个扇区(4)，各个所述扇区(4)包括具有液压流体出口(4b)的上壳体(4a)，使得当注入的液压流体从所述壳体(4a)溢出时在回转卡盘(3)和所述扇区(4)之间形成膜；定位机构，所述定位机构包括固定于所述环形基座(1)上的、在所述中央开口(1a)和所述扇区(4)之间呈径向方向的多个液压缸(5)，各个所述液压缸(5)的棒与活塞(5j)和一个所述扇区(4)相连；各个扇区(4)都被引导至径向导向元件中，使得在所述液压缸(5)的作用下，所述扇区(4)在内径向位置和外径向位置之间可移动。 | ||
| 搜索关键词： | 立式 机床 可变 静压 追踪 系统 包括 装置 | ||
【主权项】：
一种用于立式机床的可变静压追踪系统，所述可变静压追踪系统包括：能够被安装于立式机床的支撑基座(2)和固定回转卡盘(3)之间的环形基座(1)、环绕着所述回转卡盘(3)的转轴(3a)的位于所述环形基座(1)上的中央开口(1a)、能够形成一个圆且在所述环形基座(1)的外周(1b)和中央开口(1a)之间垂直伸出的多个扇区(4)，各个所述扇区(4)包括开口向上的上壳体(4a)；安装于各个所述壳体(4a)底部的至少一个液压流体出口(4b)，所述液压流体出口准许向相应的壳体(4a)中注入液压流体，使得当注入的液压流体从所述壳体(4a)溢出时，所述液压流体向上推动所述回转卡盘(3)，在所述回转卡盘(3)和所述扇区(4)之间形成液压流体膜；其特征在于：所述可变静压追踪系统包括定位机构(5)，所述定位机构能够将所述扇区(4)至少定位在内径向位置和外径向位置，在所述内径向位置处时，所述扇区(4)的至少一部分位于最小直径的圆周上，在所述外径向位置处时，所述扇区(4)的至少一部分位于最大直径的圆周上。
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