[发明专利]曝光装置、液晶显示装置及其制造方法有效
| 申请号： | 201080059879.7 | 申请日： | 2010-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN102687078A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 井上威一郎;宫地弘一 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/1337;G03F1/26 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种在扫描曝光时即使扫描暂时停止也能够抑制在接续部视认出显示不均的曝光装置、液晶显示装置及其制造方法，本发明是用于对设置于基板上的光取向膜进行曝光的曝光装置，曝光装置包括光源和光掩模，且一边对光源和基板中的至少一个进行扫描，一边隔着光掩模对光取向膜进行曝光，当将对光源和基板中的至少一个进行扫描的方向设为扫描方向，将与扫描方向垂直的方向设为垂直方向时，光掩模具有：第一区域；和沿垂直方向与第一区域相邻的第二区域，第一区域在第一遮光部内具有多个第一透光部，多个第一透光部沿垂直方向排列，第二区域在第二遮光部内具有多个第二透光部，多个第二透光部比多个第一透光部小，多个第二透光部沿垂直方向排列并且沿扫描方向离散地分散。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 液晶 显示装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其特征在于：其是用于对设置于基板上的光取向膜进行曝光的曝光装置，所述曝光装置包括光源和光掩模，且一边对所述光源和所述基板中的至少一个进行扫描，一边隔着所述光掩模对所述光取向膜进行曝光，当将对所述光源和所述基板中的至少一个进行扫描的方向设为扫描方向，将与所述扫描方向垂直的方向设为垂直方向时，所述光掩模具有：第一区域；和沿垂直方向与所述第一区域相邻的第二区域，所述第一区域在第一遮光部内具有多个第一透光部，所述多个第一透光部沿垂直方向排列，所述第二区域在第二遮光部内具有多个第二透光部，所述多个第二透光部比所述多个第一透光部小，所述多个第二透光部沿垂直方向排列并且沿扫描方向离散地分散。
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