[发明专利]制造包含纳米结构的结构的方法有效
| 申请号： | 201080056232.9 | 申请日： | 2010-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN102791468A | 公开（公告）日： | 2012-11-21 |
| 发明（设计）人： | 托马斯·乌辛 | 申请（专利权）人： | 弗莱米迪克斯公司 |
| 主分类号： | B29C59/02 | 分类号： | B29C59/02 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 蔡胜有;顾晋伟 |
| 地址： | 丹麦泰*** | 国省代码： | 丹麦;DK |
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| 摘要： | 本发明涉及一种方法，通过该方法将一种结构(如显微结构)在所述结构的制作期间形成在包含纳米结构的表面中。所述结构的制作方法优选为压印，并且由此本发明描述了保护纳米结构免受压印过程破坏的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 包含 纳米 结构 方法 | ||
【主权项】：
一种制造包含纳米结构的结构的方法，所述方法包括以下步骤：a)提供包含表面的基底，所述表面包含纳米结构；b)将牺牲表面层施加到包含所述纳米结构的所述表面以至少部分地覆盖所述纳米结构；c)将结构压印到所述表面中，所述结构至少部分地叠置到经覆盖的所述纳米结构中；d)任选地，将所述牺牲表面层从所述结构上移除，从而暴露所述结构的表面中的所述纳米结构。
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