[发明专利]镁合金构件无效

专利信息
申请号: 201080056141.5 申请日: 2010-12-06
公开(公告)号: CN102791894A 公开(公告)日: 2012-11-21
发明(设计)人: 水野修;奥田伸之;森宏治;山川真弘;西泽正行;杉原崇康 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: C22C23/02 分类号: C22C23/02;B21B3/00;B22D11/00;C22F1/06;C23C22/22;C22F1/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 陈海涛;穆德骏
地址: 日本大阪*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种具有优异抗腐蚀性的镁合金构件。所述镁合金构件包含:含有超过7.5质量%的Al的镁合金基材;和通过化学转化处理在所述基材的表面上形成的抗腐蚀层。所述基材典型地含有分散在其中的析出物粒子。所述粒子由含有Al和Mg中的至少一种元素的金属间化合物制成并具有0.05μm~1μm的平均粒度。所述粒子的总面积占1面积%~20面积%。所述抗腐蚀层包含依次在所述基材上的下亚层和表面亚层。所述表面亚层比所述下亚层更致密。所述镁合金构件的基材因为Al含量高而具有高抗腐蚀性。所述镁合金构件因为在所述抗腐蚀层正面上的致密亚层而具有优异的抗腐蚀性,所述致密亚层可防止腐蚀性液体到达所述基材。所述多孔下亚层能够降低例如在冲击时所述抗腐蚀层从所述基材剥离的倾向,并使得所述镁合金构件可保持高抗腐蚀性。
搜索关键词: 镁合金 构件
【主权项】:
一种镁合金构件,其包含:含有超过7.5质量%的Al的镁合金基材;和通过化学转化处理在所述基材的表面上形成的抗腐蚀层,其中所述基材含有分散在其中的析出物粒子,所述析出物粒子的平均粒度为0.05μm~1μm,在所述镁合金构件的横断面中所述析出物粒子的总面积占所述横断面的1%~20%,且所述抗腐蚀层包含与所述基材相邻的下亚层和在所述下亚层的上面形成的表面亚层,所述表面亚层比所述下亚层更致密。
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