[发明专利]用于生产微颗粒的方法有效
| 申请号： | 201080046130.9 | 申请日： | 2010-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN102597875A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | N·德米埃尔;S·盖姆普 | 申请（专利权）人： | 比奥卡尔齐什股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;B01J19/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李程达 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了适合用于荧光检验的硅微载体，以及生产此类微载体的方法。该方法包括以下步骤：提供包含单晶硅的底层、绝缘层和单晶硅的底层的SOI晶片，刻划微颗粒，刻蚀掉绝缘层，然后将氧化物层沉积于晶片上，晶片仍然支持微颗粒，最后提离微颗粒。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 生产 颗粒 方法 | ||
【主权项】：
生产适合作为荧光检验的支持物的微颗粒的方法，包括以下步骤：(a)提供具有包含底层、绝缘层和顶层的夹心结构的晶片；(b)刻蚀顶层以刻划微颗粒；(c)刻蚀掉绝缘层；(d)将层沉积于晶片上，晶片仍然保持着微颗粒，避免任何能够使微颗粒分离的力；和(e)从晶片提离微颗粒；其中步骤(d)发生于步骤(c)之后和步骤(e)之前。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于比奥卡尔齐什股份有限公司，未经比奥卡尔齐什股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080046130.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：带钢连续酸洗的切边送料机
- 下一篇：电解处理装置
