[发明专利]形成有机抗反射层的异氰脲酸酯化合物和包含所述化合物的组合物有效
| 申请号： | 201080039879.0 | 申请日： | 2010-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN102725695A | 公开（公告）日： | 2012-10-10 |
| 发明（设计）人： | 卢孝贞;周东奎;金泫辰;金德倍 | 申请（专利权）人： | 株式会社东进世美肯 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;阴亮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 公开了用于形成有机抗反射层的异氰脲酸酯化合物和包括所述异氰脲酸酯化合物的组合物，所述抗反射层在高温(25℃或更高)下具有优异的稳定性、优异的蚀刻速率以及高折射率。所述用于形成有机抗反射层的异氰脲酸酯化合物由权利要求1的通式1所表示。在通式1中，R各自独立地为氢或甲基，R1各自独立地为具有1至15个碳原子且包含0至6个杂原子的脂肪族或环状的饱和或不饱和烃，并且R2各自独立地为具有1至15个碳原子且包含0至15个杂原子的脂肪族或环状的饱和或不饱和烃。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 有机 反射层 异氰脲酸 酯化 包含 化合物 组合 | ||
【主权项】：
1.由下列式1表示的用于形成有机抗反射涂层的异氰脲酸酯化合物：[式1]![]()
在式1中，R独立地为氢原子或甲基，R1独立地为含0至6个杂原子的具有1至15个碳原子的链型或环型饱和或不饱和烃基，并且R2独立地为含0至15个杂原子的具有1至15个碳原子的链型或环型饱和或不饱和烃基，其中，R1能够具有至少两个结合部分，并且在R1具有至少两个结合部分的情况下，式1表示的化合物除R1以外的剩余部分能够与R1连接以形成聚合物结构。
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