[发明专利]用于设计光学透镜的方法和设备

摘要

本发明涉及设计光学透镜表面以便用于制造光学透镜的方法和装置，该方法包括步骤：提供参考表面Sref，该参考表面Sref由多个表面点Pi且各个表面点Pi都具有平均球面Sph(Pi)和柱面Cyl(Pi)的数值来限定；提供至少一个修正表面层SLmod(ξ1，...，ξN，x，y)，该修正表面层SLmod作为N个调整参数的函数来确定，其中N≥1且N个调整函数ξ1，ξ4，...，ξN根据光学目标所需的光学特性来选择；将修正表面层SLmod和参考表面Sref结合在一起，以根据公式：Star(x，y)＝Sref(x，y)+SLmod(ξ1，...，ξN，x，y)来获得光学透镜的目标光学表面Star(x，y)；从而修正在参考表面Sref的第一区域中至少一个表面点Pi处的表面参数数值而不需修改远离第一区域的参考表面Sref的第二区域中的至少一个表面点Pi处的表面参数数值。

主权项

设计光学透镜表面以用于制造光学透镜的方法，该方法包括下列步骤：提供参考表面Sref，所述参考表面Sref由多个表面点Pi限定，各个表面点Pi都具有平均球面Sph(Pi)和柱面Cyl(Pi)；提供至少一个修正表面层SLmod(ξ1，...，ξN，x，y)，所述修正表面层SLmod作为N个调整参数ξ1，ξ...，ξN的函数被确定，其中N≥1且所述N个调整参数ξ1，ξ4，...，ξN根据光学目标的所需光学特性来选择；将所述修正表面层SLmod和所述参考表面Sref结合一起，以根据下式获得光学透镜的目标光学表面Star(x，y)：Star(x，y)＝Sref(x，y)+SLmod(ξ1，...，ξN，x，y)；以便修正在所述参考表面Sref的第一区域中至少一个表面点Pi处的表面参数数值且不需修改远离所述第一区域的参考表面Sref的第二区域中的至少一个表面点Pi处的表面参数数值。