[发明专利]太阳光聚光用菲涅耳透镜片及其设计方法有效
| 申请号: | 201080033793.7 | 申请日: | 2010-05-28 |
| 公开(公告)号: | CN102460230A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
| 发明(设计)人: | 丰原诚;小野阳二;松崎一朗 | 申请(专利权)人: | 可乐丽股份有限公司 |
| 主分类号: | G02B3/08 | 分类号: | G02B3/08;H01L31/052 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 臧霁晨;卢江 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明涉及在基材中包含紫外线吸收剂的树脂制太阳光聚光用光学片,本发明的太阳光聚光用光学片的设计方法以及由此得到的太阳光聚光用光学片的特征在于,在利用金属卤化物灯式耐候性试验(装置规格:JTM G 01:2000,日本试验机工业会)进行的加速劣化试验中,经过T1小时的照射时间试验后的400nm~1850nm波长区域的平均透射率下降满足下述(1)式,即(1)式:τuv(0)+τuv(T1)>τ0(0)+τ0(T1),并且决定基材中含有的紫外线吸收剂量以使在上述波长区域各波长的透射率从初始值下降10%以内。T1是与实际使用场对应的必须要的促进试验时间。本发明的光学片在大量紫外线照射的环境、长时间使用的情况下,具有透射率不降低,能够高效率聚光的性能。 | ||
| 搜索关键词: | 太阳光 聚光 用菲涅耳 透镜 及其 设计 方法 | ||
【主权项】:
一种在基材中包含紫外线吸收剂的树脂制太阳光聚光用光学片的设计方法,其特征在于,在利用金属卤化物灯式耐候性试验(装置规格:JTM G 01:2000,日本试验机工业会)进行的加速劣化试验中,经过T1小时的照射时间的试验后的400nm~1850nm波长区域的平均透射率的下降满足式(1):τuv(0)+τuv(T1)>τ0(0)+τ0(T1) ……(1),并且决定基材中含有的紫外线吸收剂的量,以使在所述波长区域中各波长的透射率从初始值下降10%以下,其中,T1=150×2.5×U1/U0×{0.44×1n(W1/W0)+0.88}×{(0.5×cos(α1‑23.4))+cosα1}/{(0.5×cos(α0‑23.4))+cosα0} …………(2)U1:使用太阳光聚光用光学片的环境下的平均日照时间W1:使用太阳光聚光用光学片的环境下的平均水蒸汽量α1:使用太阳光聚光用光学片的场所的纬度U0:实际实施室外曝露试验的场所(日本宫古岛)的日照时间W0:实际实施室外曝露试验的场所(日本宫古岛)的平均水蒸汽量α0:实际实施室外曝露试验的场所(日本宫古岛)的纬度τuv(0):本发明的太阳光聚光用光学片的耐候性试验前的400nm~1850nm波长区域的平均透射率τuv(T1):本发明的太阳光聚光用光学片经耐候性试验T1小时后的400nm~1850nm波长区域的平均透射率τ0(0):除不含紫外线吸收剂外与本发明相同的太阳光聚光用光学片的耐候性试验前的400nm~1850nm波长区域的平均透射率τ0(T1):除不含紫外线吸收剂外与本发明相同的太阳光聚光用光学片的耐候性试验T1小时后的400nm~1850nm波长区域的平均透射率。
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