[发明专利]将光能施加至纳米颗粒以制备特定纳米结构无效
| 申请号： | 201080032626.0 | 申请日： | 2010-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN102481595A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | Z·雅尼弗;江南;J·P·诺瓦克;R·L·芬克 | 申请（专利权）人： | 应用纳米技术公司 |
| 主分类号： | B05D3/00 | 分类号： | B05D3/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 郭辉 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明的制品可通过在预定条件下将光能施加至一个或多个纳米颗粒材料层以制备纳米结构而制成。所述纳米结构包括具有预定孔密度、预定孔径或二者的光学熔融纳米颗粒层。用于施加光能的预定条件包括预定电压、预定持续时间、预定功率密度或其组合。 | ||
| 搜索关键词： | 光能 施加 纳米 颗粒 制备 特定 结构 | ||
【主权项】：
一种制品，其通过包括以下步骤的方法制备：将光能在预定条件下施加至一个或多个纳米颗粒材料层以制备具有一个或多个光学熔融层的纳米结构，所述一个或多个光学熔融层具有预定孔密度、预定孔径或二者。
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