[发明专利]用于聚合物合成的多路复用位点无效
| 申请号： | 201080023658.4 | 申请日： | 2010-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN102448977A | 公开（公告）日： | 2012-05-09 |
| 发明（设计）人： | 德莱克·林德克莱史特;兰迪·基恩;莫泰扎·格哈比 | 申请（专利权）人： | 加州理工学院 |
| 主分类号： | C07H21/04 | 分类号： | C07H21/04;C12Q1/68 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 申基成;郑霞 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文公开的是用于合成聚合物的方法、设备和其它组件。在一些实施方案中，可将许多位点多路复用在一起以允许有效的核酸合成。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 聚合物 合成 多路复用 | ||
【主权项】：
一种用于合成期望的聚合物的方法，所述方法包括：(a)提供第一反应位点，所述第一反应位点包括与所述反应位点的表面相连的第一单体；(b)选择性地照射所述第一反应位点，从而将另外的单体与所述第一单体偶联；(c)重复所述照射直至已经合成期望的结构片段，其中所述期望的结构片段在所述第一单体与所述表面相连的同时被产生；(d)从所述表面分离所述期望的结构片段；(e)按需要重复过程a至d以产生期望的数目的期望的结构片段；(f)将第一期望的结构片段与第二期望的结构片段相组合以产生第一亚聚合物；(g)将所述第一亚聚合物贮存于第一贮存位点中；(h)重复过程(a)至(f)以生成第二亚聚合物，并将所述第二亚聚合物贮存于第二贮存位点中；和(i)将所述第一亚聚合物和所述第二亚聚合物组合以形成期望的聚合物。
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