[发明专利]清洁方法、曝光方法及器件制造方法无效
| 申请号： | 201080021725.9 | 申请日： | 2010-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN102428409A | 公开（公告）日： | 2012-04-25 |
| 发明（设计）人： | 渡边俊二 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B08B3/12;G02B27/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种清洁方法、曝光方法、及器件制造方法。所述清洁方法包括透过液体将在基板曝光时所使用的与该液体接触的构件进行清洁(S2)。该方法包括用碱溶液清洁该构件(S3)，接着，用包括过氧化氢的溶液清洁该构件(S4)。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 方法 曝光 器件 制造 | ||
【主权项】：
一种构件的清洁方法，所述构件为透过液体使基板曝光时所使用的与该液体接触的构件，该方法包含：用碱溶液清洁该构件；以及在用碱溶液清洁之后，用包括过氧化氢的溶液清洁该构件。
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