[发明专利]光刻设备和方法无效
| 申请号： | 201080018387.3 | 申请日： | 2010-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN102414623A | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | B·斯特里克;R·德珠 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种使用EUV光刻设备将图案化的束投影到衬底上的方法，所述光刻设备具有包括多个反射镜(12-16)的投影系统(PS)。所述方法包括以下步骤。使用投影系统(PS)将图案化的束投影到衬底(W)上，同时沿基本上垂直衬底(W)表面的方向移动投影系统的最终反射镜(16)。旋转最终反射镜(16)以基本上补偿所投影的图案化辐射束在衬底上的由于反射镜的移动带来的不想要的平移。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种使用EUV光刻设备将图案化辐射束投影到衬底上的方法，所述光刻设备具有包括多个反射镜的投影系统，所述方法包括步骤：在使用投影系统将图案化辐射束投影到衬底上的同时沿基本上垂直于衬底表面的方向移动投影系统的最终反射镜，和旋转最终反射镜以基本上补偿所投影的图案化辐射束在衬底上的由于反射镜的移动带来的不想要的平移。
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