[发明专利]在图像中生成阴影的方法有效
申请号: | 201080015184.9 | 申请日: | 2010-03-26 |
公开(公告)号: | CN102365657A | 公开(公告)日: | 2012-02-29 |
发明(设计)人: | P.高特龙;J-E.马维;G.布莱恩德 | 申请(专利权)人: | 汤姆森特许公司 |
主分类号: | G06T15/60 | 分类号: | G06T15/60 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 吕晓章 |
地址: | 法国伊西*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明关注一种在图像(10)中生成阴影的方法,包括步骤:-计算(E2)深度图(6),该深度图包括像素阵列,其中,该深度图(6)中的像素与对应于深度值(dsm)的单个值相关联,该深度值指示从光源(2)到通过该像素可看到的最接近遮挡对象(4)的部分的深度,-将通过所述图像(10)的像素(Pix)可看到的点(P)投影(E6)到光空间中,所述投影的结果是所述深度图(6)的像素(11),-计算(E7)所述可看到的点(P)和光源(2)之间的距离(dp),-提取(E8)深度图(6)的所述像素(11)相关联的深度值(dsm),其特征在于,该方法还包括以下步骤:-对于所述图像(10)中的所述像素(Pix),作为预定基本偏置(bbase)以及在所述可看到的点(P)所处于的表面(3)的法向(N)与所述可看到的点(P)处的入射光方向(L)之间的关系的函数,来计算(E9)自适应偏置(b),-对于图像(10)中的所述像素(Pix),将所述可看到的点(P)和光源(2)之间的距离(dp)、以及对应深度图值(dsm)与所述自适应偏置(b)之和进行比较(E10),-根据所述比较,将通过所述像素(Pix)可看到的所述点(P)标记(E11,E12)为照亮或加阴影。 | ||
搜索关键词: | 图像 生成 阴影 方法 | ||
【主权项】:
一种在图像处理单元中实施的用于在图像(10)中生成阴影的方法,包括步骤:计算(E2)深度图(6),该深度图包括像素阵列,其中,该深度图(6)中的像素与对应于深度值(dsm)的单个值相关联,该深度值指示从光源(2)到通过该像素可看到的最接近遮挡对象(4)的部分的深度,将通过所述图像(10)的像素(Pix)可看到的点(P)投影(E6)到光空间中,所述投影的结果是所述深度图(6)的像素(11),计算(E7)所述可看到的点(P)和光源(2)之间的距离(dp),提取(E8)深度图(6)的所述像素(11)相关联的深度值(dsm),其特征在于,该方法还包括以下步骤:对于所述图像(10)中的所述像素(Pix),作为预定基本偏置(bbase)以及在所述可看到的点(P)所处于的表面(3)的法向(N)与所述可看到的点(P)处的入射光方向(L)之间的关系的函数,来计算(E9)自适应偏置(b),对于所述图像(10)中的所述像素(Pix),将所述可看到的点(P)和光源(2)之间的距离(dp)、以及对应深度图值(dsm)与所述自适应偏置(b)之和进行比较(E10),根据所述比较,将通过所述像素(Pix)可看到的所述点(P)标记(E11,E12)为照亮或加阴影。
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