[发明专利]曝光方法及曝光装置有效
| 申请号： | 201080014236.0 | 申请日： | 2010-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN102365589A | 公开（公告）日： | 2012-02-29 |
| 发明（设计）人： | 梶山康一 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种曝光方法及曝光装置，其中一边将被曝光体(8)沿箭头A方向输送，一边在对使用光掩模(11)的第一掩模图案组12进行的被曝光体(8)的第一曝光区域(9)的曝光结束时使快门(5)与被曝光体(8)的输送速度同步移动遮断光源光，将被曝光体(8)沿箭头D方向返回被曝光体(8)在快门(5)的移动中移动的距离，同时，移动光掩模(11)，切换为第二掩模图案组(13)，当光掩模(11)的掩模图案组的切换结束时，再次启动被曝光体(8)的向箭头A方向的输送，同时将快门(5)与被曝光体(8)的输送速度同步向箭头B方向移动，解除光源光的遮断，执行对第二曝光区域(10)的曝光。由此，提高对同一被曝光体的多种曝光图案的形成效率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光方法，其中一边将被曝光体沿一个方向输送，一边在沿该被曝光体的输送方向以规定间隔设定的多个曝光区域的每个区域形成不同的曝光图案，其特征在于，进行如下步骤：使用光掩模的一个掩模图案组而进行的针对所述被曝光体的一曝光区域的曝光结束后，使快门与所述被曝光体的输送速度同步移动而遮断光源光，其中所述光掩模是在沿所述被曝光体的输送方向以规定间隔排列与所述各曝光图案对应的多种掩模图案组而形成的光掩膜；使所述被曝光体沿所述输送方向的相反方向返回所述被曝光体在所述快门移动中所移动的距离，并移动所述光掩模，从而从所述一个掩模图案组切换为其它掩模图案组；以及所述光掩模的从所述一掩模图案组向其它掩模图案组的切换结束后，再次开启所述被曝光体向所述输送方向的输送，同时使所述快门与所述被曝光体的输送速度同步移动，解除光源光的遮断，执行对下一个曝光区域的曝光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社V技术，未经株式会社V技术许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080014236.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：基于耦合电感倍压单元的单开关管高增益变换器
- 下一篇：充气轮胎
