[发明专利]可用于磁共振成像系统中的导管有效

专利信息
申请号: 201080011921.8 申请日: 2010-01-11
公开(公告)号: CN102348477A 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: S·魏斯;O·利普斯;S·克吕格尔;B·戴维 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: A61M25/00 分类号: A61M25/00;G01R33/28
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及一种用于向对象(6)施加能量的导管(2)以及一种用于定位导管(2)的磁共振成像系统(1)。该导管(2)包括用于向对象(6)施加能量的能量施加元件以及用于提供磁共振流体的腔,从磁共振流体可以接收由磁共振成像系统(1)生成的磁共振信号,其中,所述腔适于提供冷却流体作为磁共振流体,用于冷却能量施加元件。导管(2)还包括用于跟踪导管(2)的跟踪线圈(15),其中,跟踪线圈(15)适于从磁共振流体接收磁共振信号。于是,磁共振流体实现了至少两项功能,提供用于跟踪导管(2)的磁共振信号以及冷却能量施加元件。
搜索关键词: 用于 磁共振 成像 系统 中的 导管
【主权项】:
一种可用于磁共振成像系统(1)中,用于向对象(6)施加能量的导管(2;102;202;302),所述导管(2;102;202;302)包括:‑用于向对象(6)施加能量的能量施加元件(13;113;213;313),‑用于提供磁共振流体(14;114;214;314)的腔(12;112;212;312),能够从所述磁共振流体接收磁共振信号,其中,所述腔(12;112;212;312)适于提供用于冷却所述能量施加元件(13;113;213;313)的冷却流体作为所述磁共振流体(14;114;214;314),‑用于跟踪所述导管(2;102;202;302)的跟踪线圈(15,31;115;215;315,335),所述跟踪线圈(15,31;115;215;315,335)适于从所述磁共振流体(14;114;214;314)接收所述磁共振信号。
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