[发明专利]含硅化合物结合至表面的方法及高价硅化合物的合成方法无效

专利信息
申请号: 201080009918.2 申请日: 2010-01-29
公开(公告)号: CN102341188A 公开(公告)日: 2012-02-01
发明(设计)人: 杰弗里·欧文斯 申请(专利权)人: 阿力泽有限公司
主分类号: B05D3/02 分类号: B05D3/02;C09D183/06;D06M10/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 蔡胜有;李翔
地址: 塞浦路斯*** 国省代码: 塞浦路斯;CY
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摘要: 一种用于使基底表面功能化的方法,所述方法包括:(a)提供(i)具有两个以上的离去基团的含硅化合物,和(ii)包含至少一个亲核基团的第一功能化合物;(b)使所述含硅化合物和所述功能化合物与其上具有亲核位点的基底表面接触;和(c)将所述含硅化合物、所述功能化合物和所述基底表面暴露于微波辐射。
搜索关键词: 化合物 结合 表面 方法 高价 合成
【主权项】:
一种用于使基底表面功能化的方法,所述方法包括:(a)提供(i)具有两个以上的离去基团的含硅化合物,和(ii)包含至少一个亲核基团的第一功能化合物;(b)使所述含硅化合物和所述功能化合物与其上具有亲核位点的基底表面接触;和(c)将所述含硅化合物、所述功能化合物和所述基底表面暴露于微波辐射。
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