[发明专利]X射线成像装置和X射线成像的方法有效
| 申请号： | 201080004293.0 | 申请日： | 2010-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN102272861A | 公开（公告）日： | 2011-12-07 |
| 发明（设计）人： | 向出大平;高田一广;福田一德;渡边壮俊 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 高青 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种尺寸减小的X射线成像装置和方法，能够获得考虑被检物的X射线吸收效果的微分相位图像或相位图像。X射线在空间上被分离，并且，使用其中X射线的透过量根据X射线穿过被检物时的位移而连续变化的第一衰减元件。通过使用第一衰减元件和第二衰减元件来计算透过率，第二衰减元件关于X射线的透过量在X射线的位移方向上的变化量或变化特性与第一衰减元件不同。使用透过率来计算被检物的微分相位图像等。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 成像 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种X射线成像装置，包括：分离元件，在空间上分离由X射线生成器生成的X射线；第一衰减元件，被分离元件分离的X射线入射到该第一衰减元件上；第二衰减元件，被分离元件分离的X射线入射到该第二衰减元件上，第二衰减元件被设置成与第一衰减元件相邻；以及检测单元，被配置成检测已穿过第一衰减元件和第二衰减元件的X射线的强度，其中，第一衰减元件和第二衰减元件被配置成使得X射线的透过量根据X射线的入射位置而连续变化，以及，其中，第一衰减元件和第二衰减元件关于X射线的透过量在X射线的位移方向上的变化量或变化特性相互不同。
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