[实用新型]一种用于核微孔膜生产过程的防护结构无效
| 申请号： | 201020665352.6 | 申请日： | 2010-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN201970545U | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | 崔清臣;凌红旗;晏光明;黄海龙 | 申请（专利权）人： | 中山国安火炬科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B32B37/12 | 分类号： | B32B37/12;B32B38/04;B32B38/10 |
| 代理公司： | 中山市汉通知识产权代理事务所 44255 | 代理人： | 田子荣 |
| 地址： | 528437 广东省中*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于核微孔膜生产过程的防护结构。本实用新型的一种用于核微孔膜生产过程的防护结构包括一个用于形成第一核微孔膜的第一膜层，在该第一膜层一面上认为不需要微孔的位置涂布有第一防护层，在该第一膜层的另一面复合保护膜层，其特征在于：在保护膜层上相对与第一膜层复合面的另一面复合有一个用于形成第二核微孔膜的第二膜层，在该第二膜层相对与保护膜层复合面的另一面上认为不需要微孔的位置涂布有第二防护层。本实用新型的优点在于：提高核微孔膜生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 微孔 生产过程 防护 结构 | ||
【主权项】：
一种用于核微孔膜生产过程的防护结构，包括一个用于形成第一核微孔膜的第一膜层，在该第一膜层一面上认为不需要微孔的位置涂布有第一防护层，在该第一膜层的另一面复合保护膜层，其特征在于：在保护膜层上相对与第一膜层复合面的另一面复合有一个用于形成第二核微孔膜的第二膜层，在该第二膜层相对与保护膜层复合面的另一面上认为不需要微孔的位置涂布有第二防护层。
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