[实用新型]晶片单面抛光机防撞减压装置无效
申请号: | 201020653218.4 | 申请日: | 2010-12-11 |
公开(公告)号: | CN201940890U | 公开(公告)日: | 2011-08-24 |
发明(设计)人: | 李明;陈明寿;杨理 | 申请(专利权)人: | 昆明台兴精密机械有限责任公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B55/00 |
代理公司: | 昆明今威专利代理有限公司 53115 | 代理人: | 赵云 |
地址: | 650202 云南省昆明市龙*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本实用新型抛光机的缓冲装置,特别是晶片单面抛光机的防撞缓冲装置,属于抛光机械技术领域。本缓冲装置的特征是,在与气缸活塞杆成一体的上磨盘转轴上连接有减振传动杆,在传动杆的行程上、下止点分别安装有阻尼油缸,阻尼油缸内装有复位的压力弹簧,阻尼油缸的液压油接口接于储油器上。本实用新型结构简单,可以承受很大的气缸压力和较长的行程,缓冲气缸在上下行程止点产生的冲击,减轻抛光头的冲击力量,保证半导体晶片的抛光质量,并延长抛光机的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 晶片 单面 抛光机 减压 装置 | ||
【主权项】:
一种晶片单面抛光机防撞减压装置,其特征是:在与气缸活塞杆成一体的上磨盘转轴上连接有减振传动杆,在传动杆的行程上、下止点分别安装有阻尼油缸,阻尼油缸内装有复位的压力弹簧,阻尼油缸的液压油接口接于储油器上。
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