[实用新型]一种电极表面处理装置无效
申请号: | 201020642282.2 | 申请日: | 2010-11-30 |
公开(公告)号: | CN201931343U | 公开(公告)日: | 2011-08-17 |
发明(设计)人: | 张思相;王晓宇;项光宏;王静 | 申请(专利权)人: | 聚光科技(杭州)股份有限公司;无锡聚光盛世传感网络有限公司 |
主分类号: | B24B21/00 | 分类号: | B24B21/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310052 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种电极表面处理装置,包括抛光机构、夹紧机构、动力机构和支座;所述抛光机构、夹紧机构分别设置在支座上;所述抛光机构包括转盘和抛光布,所述抛光布设置在转盘上;所述夹紧机构设置在抛光机构的上方;所述夹紧机构固定电极,使电极垂直于设置在转盘上的抛光布,并承受压力,使电极与抛光布相接触;所述动力机构控制转盘转动。本实用新型能够实现对电极表面的抛光,尤其是实现对内外层材料不一、物理性质差异较大的电极表面处理问题,本实用新型抛光效果好、可实施性强等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 电极 表面 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种电极表面处理装置,包括抛光机构和支座;所述抛光机构设置在支座上;其特征在于:所述电极表面处理装置还包括夹紧机构和动力机构,所述夹紧机构设置在支座上;所述抛光机构包括转盘和抛光布,所述抛光布设置在转盘上;所述夹紧机构设置在抛光机构的上方;所述夹紧机构固定电极,使电极垂直于设置在转盘上的抛光布,并承受压力,使电极与抛光布相接触;所述动力机构控制转盘转动。
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