[实用新型]曝光机光源装置无效

专利信息
申请号: 201020504134.4 申请日: 2010-08-25
公开(公告)号: CN201765435U 公开(公告)日: 2011-03-16
发明(设计)人: 徐福润 申请(专利权)人: 景兴精密机械有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;F21V13/04
代理公司: 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 代理人: 艾晶;周春发
地址: 中国台湾桃园*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型曝光机光源装置,主要提供曝光机一种可以相对缩减设备体积,以及降低设备维护成本的光源装置;整体光源装置在一组壳罩内部装设有:一光源模块、一凸透镜、一第一反射镜,以及一第二反射镜;藉以大幅缩减整体光源装置的组成构件,减少光源于壳罩内部的反射次数,提高光源装置的出光效率;尤其,可配合执行连续曝光作业,并能够降低设备的维护成本。
搜索关键词: 曝光 光源 装置
【主权项】:
一种曝光机光源装置,其特征在于,包括有:一组壳罩、一光源模块、一凸透镜、一第一反射镜,以及一第二反射镜;其中:该壳罩具有一出光口;该光源模块,相对安装于该组壳罩内部;该凸透镜,相对设于该组壳罩内部的光源模块出光处,用以接收来自该光源模块的光线,并将来自该光源模块的光线转呈朝向该第一反射镜方向投射的第一光源;该第一反射镜,相对设于该组壳罩内部,用以接收来自该凸透镜的第一光源,并将来自该凸透镜的第一光源转呈朝向该第二反射镜方向投射的第二光源;该第二反射镜,相对设于该组壳罩内部,用以接收来自第一反射镜的第二光源,并将来自该第一反射镜的第二光源转呈朝向该组壳罩的出光口方向投射的曝光光源。
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