[实用新型]磨片机高精度在线检测系统有效
| 申请号： | 201020502551.5 | 申请日： | 2010-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN201811719U | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | 李铁柱;王俊;王志疆;陈汉静;吴维华 | 申请（专利权）人： | 上海仪器仪表研究所 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 上海浦东良风专利代理有限责任公司 31113 | 代理人： | 陈志良 |
| 地址： | 200082 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型为一种磨片机高精度在线检测系统，其特征在于：包括传感器模块、处理与控制模块、LCD模块、电机模块、键盘模块。键盘模块设置该检测系统的初始状态并由LCD模块显示，传感器模块将测量数据通过串口输出给处理与控制模块，处理与控制模块处理数据以及控制电机模块完成相应操作，最后将控制和数据信息传输给LCD模块。本实用新型具有在线测量准确、使用方便、直观的优点，主要应用于改造传统的机械加工设备，有效降低更新成本。 | ||
| 搜索关键词： | 磨片机 高精度 在线 检测 系统 | ||
【主权项】：
一种磨片机高精度在线检测系统，其特征在于：包括传感器模块、处理与控制模块、LCD模块、电机模块、键盘模块；键盘模块设置该检测系统的初始状态并由LCD模块显示，传感器模块将测量数据通过串口输出给处理与控制模块，处理与控制模块处理数据以及控制电机模块完成相应操作，最后将控制和数据信息传输给LCD模块；所述的处理与控制模块采用MCU+CPLD结构，MCU为主控单元，选用具有加密性强、超强抗干扰、在线编程的STC89C516，CPLD作为逻辑和时序控制兼有I/O扩展功能。
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