[实用新型]口腔科用小型等离子体镀膜装置无效
申请号: | 201020293565.0 | 申请日: | 2010-08-17 |
公开(公告)号: | CN201850306U | 公开(公告)日: | 2011-06-01 |
发明(设计)人: | 郭天文;佟宇;弥谦;梁海锋 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军第四军医大学 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/06;A61C13/08;A61C8/00 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 罗笛 |
地址: | 710032 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种口腔科用小型等离子体镀膜装置,在真空室中设置有工件架、阴极底盘、热丝、热电偶、钛离子源和阳极板,其中,阴极底盘设置在工件架的下方,阴极底盘的绝缘轴向下伸出真空室与高电压的阴极连接,高电压的阳极与真空室的壳体连接,阳极板设置在工件架的上方,阳极板与热丝电压的阳极、真空室的壳体同时连接;与工件架的高度相当的位置设置有热丝、热电偶和钛离子源,热丝与热丝电流连接;真空室还连通有氮气源、氩气源、氨气源和真空装置。本实用新型的装置结构简单,布置合理,体积小;显著提高了TiN薄膜与义齿钛支架、冠桥的结合强度,增加了钛义齿的硬度、耐磨性与耐腐蚀性,同时改善钛义齿的颜色,增进美观。 | ||
搜索关键词: | 口腔科 小型 等离子体 镀膜 装置 | ||
【主权项】:
一种口腔科用小型等离子体镀膜装置,其特征在于:在真空室(12)中设置有工件架(1)、阴极底盘(2)、热丝(13)、热电偶(4)、钛离子源(7)和阳极板(10),其中,阴极底盘(2)设置在工件架(1)的下方,阴极底盘(2)的绝缘轴向下伸出真空室(12)与高电压(3)的阴极连接,高电压(3)的阳极与真空室(12)的壳体连接,阳极板(10)设置在工件架(1)的上方,阳极板(10)与热丝电压(11)的阳极、真空室(12)的壳体同时连接;与工件架(1)的高度相当的位置设置有热丝(13)、热电偶(4)和钛离子源(7),热丝(13)与热丝电流(6)连接;真空室(12)还连通有氮气源、氩气源、氨气源和真空装置(9)。
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