[实用新型]反应罐的罐盖烧架无效
申请号: | 201020223264.0 | 申请日: | 2010-06-11 |
公开(公告)号: | CN201770776U | 公开(公告)日: | 2011-03-23 |
发明(设计)人: | 殷殷 | 申请(专利权)人: | 无锡市优耐特石化装备有限公司 |
主分类号: | C23D9/00 | 分类号: | C23D9/00 |
代理公司: | 北京中恒高博知识产权代理有限公司 11249 | 代理人: | 夏晏平 |
地址: | 214142 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 反应罐的罐盖烧架,具有底座,底座上方设有平行放置的方形支撑架,底座与方形支撑架连接,所述方形支撑架的四个顶角上分别设有凸起且内倾的支撑角,4个所述支撑角对称。支撑角呈“>”形,其下端弯折部分连接底座与支撑架,支撑角“>”形弯折角α为90°~150°。本实用新型烧架与现有的烧车配合,可用于反应罐等的罐体的支撑,可用于煅烧等加工操作,具有结构简捷,使用方便等优势。 | ||
搜索关键词: | 反应 罐盖烧架 | ||
【主权项】:
反应罐的罐盖烧架,具有底座,底座上方设有平行放置的方形支撑架,底座与方形支撑架连接,所述方形支撑架的四个顶角上分别设有凸起且内倾的支撑角,4个所述支撑角对称。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡市优耐特石化装备有限公司,未经无锡市优耐特石化装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201020223264.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:硅晶片装片自动提升装置
- 下一篇:真空镀膜机