[实用新型]一种适用于粉体磁控溅射镀膜用的超声波样品台无效

专利信息
申请号: 201020132829.4 申请日: 2010-03-16
公开(公告)号: CN201665704U 公开(公告)日: 2010-12-08
发明(设计)人: 沈志刚;俞晓正;蔡楚江;麻树林;邢玉山 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/50
代理公司: 北京永创新实专利事务所 11121 代理人: 李有浩
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种适用于粉体磁控溅射镀膜用的超声波样品台,该超声波样品台包括有样品容器、共振器和超声波发生器,样品容器置于共振器上方,共振器通过电缆与超声波发生器相连。在粉体磁控溅射镀膜过程中,通过调节超声波频率20kHz~500kHz和功率50W~2000W来带动共振器,使得共振器能够把声波均匀地施加到样品容器上,从而使样品容器内的粉体上下跳动并均匀地分散,且使粉体表面镀覆上均匀的薄膜,这样就满足了粉体均匀磁控溅射镀膜的目的。
搜索关键词: 一种 适用于 磁控溅射 镀膜 超声波 样品
【主权项】:
一种适用于粉体磁控溅射镀膜用的超声波样品台,其特征在于:该超声波样品台包括有样品容器、共振器和超声波发生器,样品容器置于共振器上方,共振器通过电缆与超声波发生器相连。
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