[实用新型]一种适用于粉体磁控溅射镀膜用的超声波样品台无效
申请号: | 201020132829.4 | 申请日: | 2010-03-16 |
公开(公告)号: | CN201665704U | 公开(公告)日: | 2010-12-08 |
发明(设计)人: | 沈志刚;俞晓正;蔡楚江;麻树林;邢玉山 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/50 |
代理公司: | 北京永创新实专利事务所 11121 | 代理人: | 李有浩 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种适用于粉体磁控溅射镀膜用的超声波样品台,该超声波样品台包括有样品容器、共振器和超声波发生器,样品容器置于共振器上方,共振器通过电缆与超声波发生器相连。在粉体磁控溅射镀膜过程中,通过调节超声波频率20kHz~500kHz和功率50W~2000W来带动共振器,使得共振器能够把声波均匀地施加到样品容器上,从而使样品容器内的粉体上下跳动并均匀地分散,且使粉体表面镀覆上均匀的薄膜,这样就满足了粉体均匀磁控溅射镀膜的目的。 | ||
搜索关键词: | 一种 适用于 磁控溅射 镀膜 超声波 样品 | ||
【主权项】:
一种适用于粉体磁控溅射镀膜用的超声波样品台,其特征在于:该超声波样品台包括有样品容器、共振器和超声波发生器,样品容器置于共振器上方,共振器通过电缆与超声波发生器相连。
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