[发明专利]一种长余辉材料还原气氛保护烧结装置及工艺有效
| 申请号： | 201010622170.5 | 申请日： | 2010-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN102183140A | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | 徐文峰;廖晓玲 | 申请（专利权）人： | 重庆文理学院 |
| 主分类号： | F27B5/04 | 分类号： | F27B5/04;F27B5/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 402160 *** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种长余辉材料还原气氛保护烧结装置及工艺，由箱体和支板两部分组成，箱体呈正方或长方体，无盖，里面在距离底部15-25mm处安装有支板；支板上加工有整齐排列的固定坩埚的坩埚孔；每个坩埚孔都配备有尺寸大且不与坩埚相接触的上盖。上盖顶部有扣有小盖的上盖透气小口。本发明适用不同尺寸的箱式马弗炉、工业烧结炉；更换简单，快捷，可重复使用；可选择多种还原剂，经济实用，既适合一般长余辉材料的常规实验制备，也适合长余辉材料的工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 余辉 材料 还原 气氛 保护 烧结 装置 工艺 | ||
【主权项】：
一种长余辉材料还原气氛保护烧结装置及工艺，由箱体(1)和支板(2)两部分组成，其特征在于：箱体(1)呈正方或长方体，无盖；箱体(1)里面在距离底部15‑25mm处安装有支板(2)；支板(2)上加工有整齐排列的固定坩埚(3)的坩埚孔(8)；每个坩埚孔(8)都配备有尺寸大且不与坩埚(3)相接触的上盖(4)。
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