[发明专利]一种干涉仪阿贝余弦误差自动校准装置及方法有效
| 申请号： | 201010619281.0 | 申请日： | 2010-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN102540783A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 许琦欣;孙刚 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光刻机干涉仪阿贝余弦误差自动校准装置，包括照明光源、设置有物面标记的掩模台、物镜成像系统、工件台以及配置于所述工件台的干涉仪，其特征在于还包括设置在所述工件台上的空间像传感器，通过工件台在不同旋转、倾斜下，所述空间像传感器能够探测所述物面标记空间像时所述干涉仪的测量结果与所述工件台的设定位置或所述物面标记空间像的理论位置进行比较，拟合得出工件台干涉仪阿贝臂与余弦角。本发明还提出一种光刻机干涉仪阿贝余弦误差自动校准方法。本发明的光刻机干涉仪阿贝余弦误差自动校准装置及方法，利用空间像传感器进行标记测量，从而不需进行曝光、显影，对干涉仪阿贝臂和余弦角进行标定。同时还能够解决垂向干涉仪的标定问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 干涉仪 余弦 误差 自动 校准 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻机干涉仪阿贝余弦误差自动校准装置，沿光传播方向依序包括照明光源、设置有物面标记的掩模台、物镜成像系统、工件台以及配置于该所述工件台的干涉仪，其特征在于还包括设置在所述工件台上的空间像传感器，通过所述工件台在设定位置(nominalposition)处不同旋转、倾斜下，所述空间像传感器能够探测到所述物面标记的空间像时所述干涉仪的测量结果与所述工件台的设定位置或所述物面标记空间像的理论位置进行比较，拟合得出所述干涉仪阿贝臂与余弦角。
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