[发明专利]一种单晶硅清洗液及预清洗工艺无效
| 申请号： | 201010618904.2 | 申请日： | 2010-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN102154711A | 公开（公告）日： | 2011-08-17 |
| 发明（设计）人： | 陆海斌;石劲超 | 申请（专利权）人： | 百力达太阳能股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/10 | 分类号： | C30B33/10;H01L31/18 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 翁若莹 |
| 地址： | 314512 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种单晶硅清洗液及预清洗工艺。所述的单晶硅清洗液，其特征在于，由强碱、过氧化氢和水组成。所述的单晶硅预清洗工艺，其特征在于，具体步骤为：按比例将氢氧化钠、过氧化氢和水混合配制成单晶硅清洗液，加热到60～80℃；将原始硅片放入单晶硅清洗液中清洗。本发明的优点是：不仅可以达到较好的清洗效果，而且具有较好的稳定性、不易挥发，降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单晶硅 清洗 工艺 | ||
【主权项】：
一种单晶硅清洗液，其特征在于，由强碱、过氧化氢和水组成。
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