[发明专利]形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法有效
| 申请号： | 201010616632.2 | 申请日： | 2010-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN102530929A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 韩宝航;承倩怡;吴冲;周鼎;孙树清 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | C01B31/04 | 分类号： | C01B31/04 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 陈小莲;王凤桐 |
| 地址： | 100190 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的形成石墨烯氧化物图案的方法包括：(1)准备基底；(2)在基底的至少一个表面上制备疏水的自组装单分子膜；(3)用掩模覆盖所述疏水的自组装单分子膜后采用紫外线灯曝光，并在曝光后去除掩模，得到该至少一个表面含有图案化的自组装单分子膜模板的基底；(4)用石墨烯氧化物量子点的水溶液覆盖所述图案化的自组装单分子膜模板，干燥，从而在基底的该至少一个表面上形成石墨烯氧化物图案。本发明克服了现有技术中所制备的石墨烯氧化物图案不具有特征光学性质的缺陷，制备得到了具有激发依赖荧光特性的石墨烯氧化物图案。本发明的方法开拓了制备石墨烯氧化物图案的新的思路。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 石墨 氧化物 图案 方法 | ||
【主权项】：
一种形成石墨烯氧化物图案的方法，该方法包括：(1)准备基底；(2)在基底的至少一个表面上形成疏水的自组装单分子膜；(3)用掩模覆盖所述疏水的自组装单分子膜后采用紫外线灯曝光，并在曝光后去除掩模，得到该至少一个表面含有图案化的自组装单分子膜模板的基底；(4)用石墨烯氧化物量子点的水溶液覆盖所述图案化的自组装单分子膜模板，干燥，从而在基底的该至少一个表面上形成石墨烯氧化物图案。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国家纳米科学中心，未经国家纳米科学中心许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010616632.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：沼气干发酵复合菌
- 下一篇：一种全自动瓶盖烫色输送机
