[发明专利]用于光刻设备的参考光栅装调装置及方法有效
| 申请号： | 201010606285.5 | 申请日： | 2010-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN102540743A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 陈振飞;王海江 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种用于光刻设备的参考光栅装调装置及方法，按照光束传播的方向依次包括：激光光源、振动镜、反射镜、第一透镜组、光阑及第二透镜组，用于将参考光栅调整至焦平面处，还包括一光强调校单元，用以调整所述激光光源的输出光束的光强。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 参考 光栅 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的参考光栅装调装置，按照光束传播的方向依次包括：激光光源、振动镜、反射镜、第一透镜组、光阑及第二透镜组，用于将参考光栅调整至所述第二透镜的焦平面处，其特征在于：还包括一光强调校单元，用以调整所述激光光源输出光束的光强。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010606285.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
