[发明专利]维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法无效
| 申请号： | 201010602289.6 | 申请日： | 2007-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN102156389A | 公开（公告）日： | 2011-08-17 |
| 发明（设计）人： | 柴崎祐一;水谷刚之;一之濑刚;涉田慎 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 吴丽丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法，该维修方法，具备：将液体1供应到光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸区域的液浸空间形成构件(30)、将液体1供应到液浸空间的液体供应机构(10)、移动衬底(P)的衬底载台(PST)、以及形成有基准标记的测量载台MST的曝光装置。为了洗净液浸空间形成构件(30)，将洗净液供应到测量载台MST与液浸空间形成构件(30)之间。曝光装置具备用于洗净液浸空间形成构件(30)的各种洗净机构。能有效地进行曝光装置的维修同时实施液浸曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 维修 方法 曝光 装置 以及 组件 制造 | ||
【主权项】：
一种曝光装置的维修方法，上述曝光装置用第1液体充满光学构件与衬底之间以形成液浸空间，经由上述光学构件与上述第1液体用曝光用光使上述衬底曝光，所述曝光装置的维修方法的特征在于包括：移动步骤，与使用上述第1液体形成上述液浸空间的液浸空间形成构件对向配置可动体；以及洗净步骤，用设置于上述可动体的具可挠性的清扫构件清扫上述液浸空间形成构件。
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