[发明专利]曝光头和图像形成装置无效

专利信息
申请号: 201010563159.6 申请日: 2010-11-25
公开(公告)号: CN102081326A 公开(公告)日: 2011-06-01
发明(设计)人: 宗和健;井熊健;小泉竜太;井上望 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G03G15/043 分类号: G03G15/043;G03G15/04;G03G15/00;B41J2/447
代理公司: 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 代理人: 黄威;张彬
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种曝光头和图像形成装置,其能够在将成像光学系统的像差抑制于较小程度的同时,确保足够的用于形成光点的光量,从而能够实现高精度的曝光。该曝光头的特征在于,具有:发光元件阵列,其具有配置在第1方向上的发光元件;遮光部件,其具有使发光元件发射的光通过的孔径光阑;成像光学系统,其对通过遮光部件的光进行成像,其中,成像光学系统在第1方向上的放大倍率的绝对值,在0.7倍以上且在0.8倍以下。
搜索关键词: 曝光 图像 形成 装置
【主权项】:
一种曝光头,其特征在于,具有:发光元件阵列,其具有被配置在第1方向上的发光元件;遮光部件,其具有使所述发光元件发射的光通过的孔径光阑;成像光学系统,其对通过所述遮光部件的光进行成像;其中,所述成像光学系统在所述第1方向上的放大倍率的绝对值在0.7倍以上且在0.8倍以下。
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