[发明专利]用于基因芯片原位合成的虚拟掩模的生成方法有效

专利信息
申请号: 201010558170.3 申请日: 2010-11-25
公开(公告)号: CN102004833A 公开(公告)日: 2011-04-06
发明(设计)人: 刘正春;杨飞鹏;邬燕琪 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 长沙市融智专利事务所 43114 代理人: 黄美成
地址: 410083 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种用于基因芯片原位合成的虚拟掩模的生成方法,其步骤包括:步骤1:读入表征探针阵列的数据;步骤2:寻找探针阵列的公共超序列;对探针阵列进行翻转前和翻转后两次超序列运算,将最短的一个超序列作为公共超序列;步骤3:根据公共超序列确定曝光点分布;步骤4:输出掩膜图。本发明的用于基因芯片原位合成的虚拟掩模的生成方法生成虚拟掩模的效率高、节省芯片制备成本。
搜索关键词: 用于 基因芯片 原位 合成 虚拟 生成 方法
【主权项】:
一种用于基因芯片原位合成的虚拟掩模的生成方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1:读入表征探针阵列的数据;步骤2:寻找探针阵列的公共超序列;对探针阵列进行翻转前和翻转后两次超序列运算,将最短的一个超序列作为公共超序列;步骤3:根据公共超序列确定曝光点分布;步骤4:输出掩膜图。
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